朗铭举办大家支持--携手西湖大学微纳平台举办专题研讨会

磁控溅射，快速退火炉，低压化学气相沉积，原子层沉积等设备是半导体前端制备不可或缺的工艺。近几年随着半导体科技的飞速发展，传统的工艺设备己无法满足半导体行业及相关科研的更高需求。为了提高用户对相关半导体设备的认知和了解，朗铭公司携手微纳平台邀请到了半导体设备领域的国内外资深专家，对部分主流半导体设备的最新发展方向及其在新兴艺领域的成功应用案例进行分享和介绍，并将与与会的专家学者、老师同学进行深入沟通和交流。