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    Annealsys SAS

     


    Annealsys 是2004年5月成立于法国南部蒙彼利埃的民营企业,企业股东均为真空快速退火炉及化学气相沉积方面的专家。所生产设备专门为研发、质量控制和部分生产应用提供解决方案。


    【我们的理念】
    同客户建立长期良好关系
    提供可靠、高质量设备
    确保低使用成本
    提供良好的支持和服务
    为此,我们已经在世界范围内建立广泛的客户服务网络

    【主要产品】
    Rapid Thermal Processing(RTP) 快速退火炉
    Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition(RTCVD) 快速化学气相沉积设备
    Direct Liquid Injection chemical vapor deposition (DLI-CVD) 直接液体注射化学气相沉积设备
    Direct Liquid Injection Atomic Layer Deposition (DLI-ALD) 直接液体注射原子层沉积设备


    快速热退火炉设备在半导体、MEMS、纳米技术、硅、太阳能电池、玻璃、光伏光电等行业中有着重要的应用。设备可广泛应用于:接触退火,注入退火,RTO (快速热氧化),RTN (快速热氮化),硅平滑,扩散,致密化和结晶化,硒化,硫化等。


    适用大范围类型的基片:硅和化合物半导体晶圆,GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆,多晶硅晶圆,玻璃,金属,高分子聚合物,石墨和碳化硅托盘等。



    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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