FHR镀膜设备及组备件
概述：FHR专业致力于PVD、PECVD镀膜设备，RIE等离子刻蚀设备，新一带的FLA闪光灯退火设备，代表新一代半导体、微电子、纳米薄膜沉积技术的ALD 原子层沉积设备，拥有专利技术的高密度等离子体ICP源、磁控溅射源，气路控制系统，在线工艺检测控制系统，高性能真空零部件等的设计制造。
FHR.Star
fhr放射式磁控溅射台
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FHR.RIE
德国进口fhr刻蚀设备
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EOSS-500
FHR高精密真空镀膜机
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FHR.Box
FHR磁控溅射台
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FHR.Roll 系列
FHR.Roll1600
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紫外臭氧清洗机
FHR紫外臭氧清洗机
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真空靶材
磁控溅射设备专用靶材
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FHR.PECVD系列
FHR等离子增强化学气相沉积设备
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FHR.FLA产品
FHRFLA闪光灯退火炉
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FHR.Roll系列
卷对卷镀膜设备
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FHR.Line系列
FHR太阳能薄膜电池设备
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concentrated solar power
太阳能集热管镀膜设备
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FHR光学镀膜设备
光学薄膜设备
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FHR实验室 等离子增强CVD设备
实验室PECVD设备
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FHR实验室plasma cleaning system
实验室等离子预清洗设备
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FHR实验室反应离子刻蚀设备
实验室反应离子刻蚀设备
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FHR实验室离子束刻蚀和反应离子刻蚀设备
离子束刻蚀和反应离子刻蚀设备
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FHR实验室蒸发设备
实验室蒸发设备
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FHR实验室双源磁控溅射台
实验室双源磁控溅射台
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FHR实验室闪光灯退火设备
FHR实验室闪光灯退火设备
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FHR单源磁控溅射台
德国进口单源实验室磁控溅射台
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ALD原子层沉积设备
实验室ALD原子层沉积设备
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FHR实验室设备
实验室小型设备
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汽车反光镜镀膜设备
汽车反光镜镀膜设备
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FHR车膜和建筑玻璃幕墙
车膜和建筑玻璃幕墙
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UPS 03 多用途工艺控制系统
UPS03多用途工艺控制系统是专门针对快速工艺控制而设计。主要用途是基于控制器的快速响应实现对真空工艺过程中工作气压的精确控制。
例如:UPS 03对反应溅射过程中的反应气体流量进行动态控制而获得稳定工艺。UPS在这些应用中将显示其特有的优势。所选用的PVC 03和PVC 04(与电气绝缘的电压连接)压 电陶瓷阀执行元件。所有模拟输出为0...10 V的器件和PFEIFFER公司的真空规可作传感器用。UPC 03控制器被设计成为具有自我响应极为快速功能
气体控制系统 控制单元 pcv03 04
气体控制系统控制单元pcv0304
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universal process system UPC 03
气体控制系统
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产品展示
