• ALD原子层气相沉积系统.-热ALD




    Savannah G2



    基本性能

    ALD设备
    可选腔室尺寸:100mm, 200mm 或 300mm
    标准腔室温度:350℃
    占地面积小
    标配2个气源,可选配6个气源
    性能可扩展,灵活性高
    设备设计精简
    设备内整合了蒸气阱
    可选配多种性能
    Savannah G2 ALD设备优势
    快速ALD工艺处理 (2秒处理AL2O3)
    增强版气源 & 气体传送
    设备控制系统性能高
    新型软件结构
    在线椭圆测量
    整合了在线石英晶体微量天秤
    低压沉积性能高
    批量处理不同气源
    高温手套箱解决方案
    粒子沉积系统
    可选等离子增强ALD性能


     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Veeco/Cambridge NanoTech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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