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发布时间:2024-03-11 20:50:34 浏览次数:260次
3.19 上午10点45,西湖大学云谷校区E10-205教室,期待您的莅临。
磁控溅射,快速退火炉,低压化学气相沉积,原子层沉积等设备是半导体前端制备不可或缺的工艺之一。近几年随着半导体科技的飞速发展,传统的工艺设备已无法满足客户更高一步的需求。我们展示的产品在新兴工艺领域均有涉及,希望通过此次研讨会,可以与各领域专家学者深入沟通交流。
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