Press release - FHR.Star.400x300-SALD_ch-v2

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img1空间原子层沉积系统 FHR.Star.400x300-SALD交付使用



FHR成功交付了FHR.Star.400x300-SALD
这是FHR公司交付的第一台空间原子层沉积(spatial ALD设备。该系统能够在200毫米晶圆上沉积薄膜以及纺织品或其他最大400 x 300 x 10 mm³3D基材。


空间ALD允许在平面和微结构表面进行高速和高覆盖性的涂层。应用于镜头上的介电抗反射涂层的镀膜,以及电绝缘涂层 
或防止湿气或氧气对其影响
保护层,用于人工关节或功能化纺织品;



在其基本配置中,FHR.Star.400x300-SALD能够实现多达8个晶圆或43D基板上同时进行热ALD制备工艺。对于晶圆上的Al2O3,已达到5-10 nm/min的沉积速率和<±2.0%的厚度不均匀性。该设备具备升级空间,可添加其他薄膜沉积工艺模块或等离子体处理模块原位椭偏膜厚测量和透射光谱测量,以改善工艺过程控制。为了进一步提高生产效率,FHR.Star.400x300-SALD具备整合枚页型结构的能力,包括中间机械手腔室、负载锁腔室、预处理室或其他工艺室。


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FHR, Marian Böhling (CSO)认为"ALD镀膜技术因其独特的保形性和精度而受到重视,即使在3D基材上也是如此,但却被认为速度慢,因此常常被忽视。我们的 FHR.Star.400x300-SALD 令人印象深刻地驳斥了这一说法,并使ALD成为一种令人兴奋和有前途的薄膜技术,可用于广泛的工业应用。安装在世界一流的薄膜研究所,这台 FHR.Star.400x300-SALD 让每一个有兴趣将ALD用于自己的产品的人提供了一个低门槛的通道。“



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Automatisch generierte BeschreibungFHR Anlagenbau GmbH - 薄膜公司成立于1991年,提供量身定做的真空镀膜系统和溅射靶材,以及镀膜和设备服务。

我们与客户的密切合作从工艺开发开始,一直到中试规模发展到大规模生产。我们的产品组合将溅射、蒸发、PECVDALD等技术整合到集群、在线、卷对卷和批量等设备类型中。总部设在德国系统安装在全球各个行业如半导体、MEMS电子、传感器技术、光学、光伏等我们将共同为客户寻找真空镀膜解决方案。 

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