FHR.Boxx 系列
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型号 |
Boxx 400 PVD |
Boxx 400 LL |
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衬底材料 |
半导体；陶瓷；玻璃 |
半导体；陶瓷；玻璃 |
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每批数量 |
取决于基底尺寸 例如，4”/6”晶片 24片/12片 |
取决于基底尺寸 例如，4”/6”硅片 24片/12片 |
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溅射靶位 |
7个 |
5个 |
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RF等离子体源 |
1个 |
1个 |
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极限真空 |
5×10-7mbar |
5×10-7mbar |
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膜厚均匀性 |
±3% |
±3% |
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工艺气体 |
氩气；氮气；氧气 |
氩气；氮气；氧气 |
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设备尺寸 |
3760mm×2950mm×2500mm，2550kg |
7600mm×4400mm×2500mm，4300kg |
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可选件 |
基底加热按需提供反应溅射 |
按需提供反应溅射工艺 |
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典型应用 |
半导体微电子 MEMS 传感器领域 功能膜 照明领域 光学膜装饰膜多层膜溅射 |
半导体微电子 MEMS 传感器领域 功能膜 光学膜工艺装饰 膜层工艺多层膜溅射工艺 |
