FHR.Line 系列
| 型号 |
Line 1600 |
Line 2500 |
| 最大基片尺寸 |
500mm×300mm×12mm |
2200mm×2100mm×10mm |
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衬底材料 |
半导体；陶瓷；玻璃 |
玻璃 |
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溅射靶位 |
2-6个 |
12个 |
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极限真空 |
＜9×10-7mbar |
＜1×10-6mbar |
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膜厚均匀性 |
±3% |
±3% |
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工艺气体 |
氩气（Ar）氮气（N2）氧气（O2） |
氩气（Ar）氮气（N2）氧气（O2） |
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设备尺寸 |
3600mm×3500mm×2500mm（包含支架）4500kg |
4500mm×500mm×2500mm |
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可选件 |
基片可加热RF 等离子体刻蚀 |
基片可加热RF 等离子体刻蚀 |
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典型应用 |
MEMS 传感器微电子 光电子 |
光伏 平板显示光学 |
