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Tystar.TYTAN 炉

型号

 

Tytan标准

工艺

TYTAN 炉系统是专为氧化, 扩散和低 压化学气相沉积应用而设计的。与其它相同 产能的常规炉系统相比,它具有结构紧凑, 占地空间小和省电等优势

关键设计和性能特点

创新性热能设计

占地空间小

优良的工艺均匀性

设备开机率优于95%

庞大的客户网络

专家服务

节省(50%)电能和气体消耗

便于保养和服务

TYTAN炉系统对照表

 

Tytan炉对照表

适用工艺

常压工艺

氧化工艺(湿法,干法)

固态源扩散(BN,P2O5

液态源扩散(POCl3,BBr3

退火

纳米材料

烧结+合金

低压化学气相沉积和工艺

掺杂多晶硅和非晶硅 LPCVD

多晶硅 LPCVD(使用硅烷或乙硅烷)

低温氧化硅,掺杂性低温氧化硅,硼磷硅玻璃,硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD

高温氧化硅LPCVD

TEOS氧化硅LPCVD

氮化硅LPCVD(低应力型,标准型)

锗(Si-Ge)LPCVD

掺氧半绝缘多晶硅,碳化硅

外延硅

纳米材料LPCVD

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