010-82254950
Tystar.TYTAN 炉
型号
|
|
工艺 |
TYTAN 炉系统是专为氧化, 扩散和低 压化学气相沉积应用而设计的。与其它相同 产能的常规炉系统相比,它具有结构紧凑, 占地空间小和省电等优势 |
关键设计和性能特点 |
创新性热能设计 占地空间小 优良的工艺均匀性 设备开机率优于95% 庞大的客户网络 专家服务 节省(50%)电能和气体消耗 便于保养和服务 |
TYTAN炉系统对照表
|
|
适用工艺 |
常压工艺 氧化工艺(湿法,干法) 固态源扩散(BN,P2O5) 液态源扩散(POCl3,BBr3) 退火 纳米材料 烧结+合金 |
低压化学气相沉积和工艺 掺杂多晶硅和非晶硅 LPCVD 多晶硅 LPCVD(使用硅烷或乙硅烷) 低温氧化硅,掺杂性低温氧化硅,硼磷硅玻璃,硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD 高温氧化硅LPCVD TEOS氧化硅LPCVD 氮化硅LPCVD(低应力型,标准型) 硅锗(Si-Ge)LPCVD 掺氧半绝缘多晶硅,碳化硅 外延硅 纳米材料LPCVD |
-
ꁸ 回到顶部
-
ꂅ 010-82254950-200
-
ꁗ QQ客服
-
ꀥ 微信二维码
友情链接