FHR Anlagenbau GmbH 致力于薄膜技术和真空镀膜设备的研发创新以及薄膜技术领域的辛勤耕耘。公司主要业务领域集中于镀膜设备的制造，范围涵盖蒸发沉积、磁控溅射、化学气相沉积和原子层沉积等技术，产品应用于工业及研发领域。

Annealsys是一家领先的RTP和DLI -CVD / DLI -ALD系统制造商，用于硅和化合物半导体、纳米技术、MEMS、太阳能电池、玻璃等领域的研究生产应用的公司。凭借15年的经验，我们的博士团队已经开发和优化了多个RTP, ALD和CVD工艺。

Tystar公司正在与世界一流大学和研究所合作开发多个有挑战性的化学气相沉积项目。近期Tystar取得的专有化学气相沉积解决方案包括：超高温氧化炉、锗硅、碳纳米管垂直阵列、谐振腔、侧向氧化。

CN1通过积极的研发投资，已成为原子层沉积(ALD)设备的领先的供应商。经过十多年的集约开发，我们的设备设计和工艺技术得到了充分的验证和完善。

艾利普所科技成立于2000年7月份，是生产通过薄膜薄层的偏振态变化来测量和分析薄膜结构、性质的光学测量仪器的公司。我们在这一领域积累了30年的优秀经验，通过提供最优良的设备以及针对相关薄膜和光偏振态变化的建议，我们会促使贵公司的发展和成长。

Centrotherm Clean Solution是一家提供优质高温废气处理、干式废气处理、水洗废气处理、废水处理的公司：我们是提供高效定制解决方案全球领先的专家，也是廢气和废水处理的信赖合作伙伴。