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Boxx.400

发布时间:2024-03-01 14:27:35 浏览次数:79次

FHR.Boxx.400-LL.png    FHR.Boxx.400-LL(2).jpg


FHR.Boxx溅射设备产品系列也可称作箱式镀膜设备 为多种不同基片小规模量产镀膜任务提供极具吸引力的解决方案。

相较单腔室箱式镀膜设备,利用矩形闸阀分隔为一个工艺模块和一个进样室/预清洗模块,各模块配备独立泵抽系统。镀膜鼓可实现在上述腔室间的隔离,从而使工艺模块保持真空状态,降低杂质的引入和飘散。

启动进样室内的旋转鼓,通过等离子体刻蚀方式对基片进行预清洗工艺。可另外选择对基片进行加热以实现除汽过程。当工艺腔室内镀膜鼓开始旋转,基片将被运送到不同的溅射区域,从而实现多个溅射源的顺序镀膜工艺。


尺寸( 长 x 宽 x 高), 重量 7.6 m x 4.4 m x 2.5 m, 4300 kg
进样室内可装配工艺端口数量 5 (最多)
工艺腔室内可装配工艺端口数量 5 (最多)
基片最大尺寸 直径 150 mm, 156 x 156 mm2
批量生产能力 视基片尺寸而定,如,4“/6“ 硅片 24/12 片
溅射源型号 FHR.SR400-DC 或 FHR.SR400-RF
刻蚀源型号 FHR.IEC400-RF 或 IonS 400-DC




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