EOSS光学设备

发布时间：2024-03-01 14:18:57 浏览次数：93次

磁控溅射系统设计用于制造光学干涉膜层，用于沉积多重光学层，可满足有关膜厚一致性，可重复性和生产效率的最高要求。

	Star.500 EOSS	Star.600 EOSS
设备展示图
尺寸（长度×宽度×高度）	5米× 5.0米× 3.2米	7.6米 × 5.1米 × 4.14米
基片（单个）	最大直径200毫厚度：最大50毫米	最大直径300毫米或280毫米×330毫米厚度最大50毫米
每批基片（12个载架）	12个8英寸或12个6英寸或24个4英寸，其他尺寸可根据要求调整	12个直径为300毫米的基板或12个280毫米× 330毫米的基板，其他尺寸可根据需求提供
膜厚均匀性	± 0.25 %	± 0.25 %
膜厚控制	时间控制、光学宽带监测 (UV-VIS-IR)
靶材	选用圆柱形磁控管向上溅射以改善膜质量，磨损偏移小，靶材寿命长