化学气相沉积设备

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直喷液体注入设备

发布时间：2024-03-01 15:23:07 浏览次数：82次

（DLI-CVD DLI-ALD & LPCVD）MC-50.jpg

（DLI-CVD DLI-ALD & LPCVD）MC-100.jpg

（DLI-CVD DLI-ALD & LPCVD）MC-200.jpg

2英寸DLI-CVD / DLI-ALD设备

经济适用

100mmDLI-CVD/DLI-ALD设备

8英寸DLI-CVD/DLI-ALD设备
可选配远程等离子体装置

最多4个直喷液体注入式雾化器

可从室温升高到1100℃

红外卤素灯管加热

原位退火能力（RTP）

多重工艺设备

多达8条带MFC的工艺气路

可选配手套箱接口

高达3个直喷液体注入式雾化器

可从室温升高到800℃

多重工艺设备：CVD,ALD等

可旋转加热的基板底座

多达8条带MFC的工艺气路

可选配自动装载模式

高达4个直喷液体注入式雾化器

可从室温升高到800℃

多重工艺设备：CVD,ALD等

可旋转加热的基板底座

多达8条带MFC的工艺气路

可选配自动装载模式