Tystar.光增强反应器

Tystar PVD1000光增强型CVD反应器使用紫外线作为能源来在低温下（<150ºC）激发工艺气体以沉积介质薄膜。该设备可用于沉积二氧化硅薄膜（SiO2）、氮化硅薄膜（Si3N4）、氮氧化硅薄膜（SiON）和其它薄膜。由于沉积温度较低从而得到低应力薄膜。由于所使用的UV光子能量没有将工艺气体电离，避免因带电粒子造成的辐射损伤。

PVD1000沉积膜提供了良好的阶梯覆盖率。PVD1000系统采用单腔室和双腔室。PVD1000反应器可用于各种“III/V”材料膜的沉积，比如砷化镓、锑化铟和其它的材料，这些材料不能承受高的沉积温度。