Tystar.TYTAN 炉

发布时间：2024-02-20 18:33:21 浏览次数：113次

Tystar.TYTAN 炉.png

TYTAN 炉系统是专为氧化, 扩散和低压化学气相沉积应用而设计的产品。

与其它相同产能的常规炉系统相比，它具有结构紧凑，占地空间小和省电等优势。

适用工艺

常压工艺

 氧化工艺(湿法, 干法)

 固态源扩散(BN, P2O5)

 液态源扩散 (POCl3, BBr3)

 退火

 纳米材料

 烧结+ 合金

低压化学气相沉积工艺

 掺杂多晶硅和非晶硅 LPCVD

 多晶硅 LPCVD（使用硅烷或乙硅烷）

 低温氧化硅, 掺杂性低温氧化硅, 硼磷硅玻璃, 硼硅玻璃和磷硅玻璃 LPCVD

 高温氧化硅 LPCVD

 TEOS 氧化硅 LPCVD

 氮化硅 LPCVD(低应力型, 标准型)

 硅锗(Si-Ge) LPCVD

 掺氧半绝缘多晶硅, 碳化硅

 外延硅

 纳米材料 LPCVD

Mini-TYTAN 炉系统对照表