超高温适用

发布时间：2024-03-01 15:16:20 浏览次数：532次

高温RTP设备，退火工艺可达2000℃ RTP和RTCVD工艺，高真空

	基片尺寸	最大直径200mm的基片（8英寸）
	工艺腔室	不锈钢冷壁腔室技术低活性钨加热元件
	温度范围	450 ℃到2000℃
	温度控制	热电偶温度控制快速数字PID/RTP温度控制器
	真空和气体	最多8路由数字MFC控制的工艺气路一条吹扫气路真空阀和真空规