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超高温适用

发布时间:2024-03-01 15:16:20 浏览次数:94次

高温RTP设备,退火工艺可达2000℃ RTP和RTCVD工艺,高真空


快速热退火设备(RTP RTCVD)Zenith.jpg基片尺寸最大直径200mm的基片(8英寸)
工艺腔室

不锈钢冷壁腔室技术

低活性钨加热元件

温度范围450 ℃到2000℃
温度控制

热电偶温度控制

快速数字PID/RTP温度控制器

真空和气体

最多8路由数字MFC控制的工艺气路

一条吹扫气路 

真空阀和真空规



 



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