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8"基片适用

发布时间:2024-03-01 15:18:51 浏览次数:117次

可满足从研发到生产200mm 需求的RTP设备 温度范围:室温到1450℃ 具备标准真空性能 手动或盒到盒装载模式



快速热退火设备(RTP RTCVD)AS-Master.jpg快速热退火设备(RTP RTCVD)Zenith.jpg

基片尺寸

最大直径200mm

可处理3x100mm基片

小基片可使用托盘

工艺腔室不锈钢冷壁腔室技术
温度范围

根据版本

最高温度可达1150℃,1250℃ 或1450℃

温度控制

热电偶和高温计温度控制

快速数字PID/RTP温度控制器

真空和气体

最多8路由数字MFC控制的工艺气路

一条吹扫气路 

真空阀和真空规



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